Печать

Baltic ALD 2014

Обновлено

12-13 мая в Хельсинки проходила 12 Международная конференция Baltic ALD 2014 (12 International Baltic Conference on Atomic Layer Deposition). С приглашенным докладом на конференции выступил доцент кафедры ХТТ В. Е. Дрозд, член международного консультативного совета Baltic ALD 2014.


Нанотехнология получения сверхтонких пленок методом ALD (Atomic Layer Deposition) была впервые разработана в Ленинграде в середине 60-х годов прошлого века (Метод молекулярного наслаивания) в научной школе, по руководством профессора, член-корреспондента РАН В. Б. Алесковского (1975-1985 гг. - ректор ЛГУ см. http://spbu.ru/faces/professors/175-chimic/887-aleskovskii). В середине 70-х годов эта технология была независимо открыта ученым из Финляндии Т. Сунтола (Tuomo Suntola).  В настоящее время технология получила широкое распространение во многих новейших областях науки и техники, таких как электроника, солнечная энергетика, катализ, сенсорика, медицина, электролюминесцентные дисплеи, запись информации, МЭМС, фотонные кристаллы и др. Важный вклад в эти исследования вносят наши российские ученые. В нашем университете работы по исследованиям в области Молекулярного Наслаивания (МН) -  ALD (Atomic Layer Deposition) проводятся в Институте химии и на физическом факультете. В  июне месяце в Японии будет проходить очередная международная конференция по ALD - Atomic Layer Deposition (AVS-ALD 2014, Kyoto, Japan) под эгидой американского вакуумного общества - AVS. Финскими учеными там будет представлен доклад об историческом развитии МН-ALD технологии в мире, и в том числе в СССР и России. Презентация доклада Dr. Riikka Puurunen (VTT Technical Research Centre of Finland), прилагается.

Презентация доклада (pdf)